Рентгеновская пленка Structurix D8

Рентгеновская пленка Structurix D8 - плёнка со среднезернистой структурой, высоким контрастом, обладающая очень высокой чувствительностью. Возможность использования пленки Structurix D8 как со свинцовыми экранами, так и без них.

При необходимости в уменьшении времени экспозиции пленка может быть использована в сочетании с усиливающими флуоресцирующими экранами Structurix F8.

Рентгеновская пленка Structurix D8 применяется для контроля бетонных и тяжелых конструкций, литых деталей.

Сенситометрическая кривая

Номограммы экспозиции

Приводимые номограммы позволяют определить продолжительность экспозиции в зависимости от параметров источника излучения и условий съемки.

Изделие из стали (Fe):

Условия: - рентгеновский аппарат постоянного потенциала; - использованы свинцовые усиливающие экраны; - расстояние от фокуса до пленки: 1 метр; - оптическая плотность: D = 2; - автоматическая проявка, G135/G335, 28°С, цикл 8 минут. kV - напряжение на аноде; mA - сила тока на катоде; mm - толщина просвечиваемого изделия.

Условия: - рентгеновский аппарат постоянного потенциала; - расстояние от фокуса до пленки: 1 метр; - оптическая плотность: D = 2; - автоматическая проявка, G135/G335, 28°С, цикл 8 минут. kV - напряжение на аноде; mA - сила тока на катоде; mm - толщина просвечиваемого изделия.

Условия: - изделие из стали (Fe); - использованы свинцовые усиливающие экраны; - расстояние от фокуса до пленки: 1 метр; - оптическая плотность: D = 2. GBq.h - активность радиоактивного источника в ГБк в час; mm - толщина просвечиваемого изделия.

Условия: - изделие из стали (Fe); - использованы свинцовые усиливающие экраны; - расстояние от фокуса до пленки: 1 метр; - оптическая плотность: D = 2. GBq.h - активность радиоактивного источника в ГБк в час; mm - толщина просвечиваемого изделия.

Условия: - изделие из стали (Fe); - использованы свинцовые усиливающие экраны; - расстояние от фокуса до пленки: 1 метр; - оптическая плотность: D = 2. GBq.h - активность радиоактивного источника в ГБк в час; mm - толщина просвечиваемого изделия.

• NIF (упаковка в светонепроницаемом общем конверте без бумажных прокладок): 30×40 см (100 листов);
• FW (упаковка с бумажными прокладками): 10×40 см (100 листов), 10×48 см (100 листов), 30×40 см (100 листов).

• коробки с пленкой должны храниться на ребре вдали от химреактивов;
• оптимальная температура хранения t = 4°-24°С;
• относительная влажность 50-60%;
• радиоактивный фон менее 90 nGy/h;
• при температуре хранения ниже 4°С (в отличие от воздействия повышенной температуры) никаких необратимых изменений сенситометрических параметров не происходит. Однако после содержания фотопленки при пониженных температурах, коробки с пленкой следует вскрывать только после ее отогревания до рабочего диапазона температур (t = 4°-24°С). В противном случае, возможна конденсация влаги на фотослое, что может привести к изменению его однородности и склеиванию фотопленки;
• при условии правильного хранения фирма-изготовитель гарантирует сохранность продукции не менее 1,5 лет. Срок годности продукции указывается на упаковках.

Химико-фотографическая обработка радиографических пленок должна осуществляться в условиях неактиничного освещения, λ>520 нм, оливково-зеленый светофильтр (Structurix G7) или красный светофильтр (Structurix R1) или светодиодное освещение λ=590/λ=660 нм.

Отличительные особенности Structurix D8

При изготовлении пленок Structurix применяется ультрасовременная технология «Split Antistress Layer», которая позволяет наносить на фотографическую эмульсию защитные слои с высокой степенью адгезии к фотослою, что обеспечивает высокую стойкость к давлению, истиранию, сгибам и царапинам.

Преимущества технологии «Split Antistress Layer»

• отсутствие повреждений фотослоя в процессе упаковки и распаковки;
• отсутствие повреждений фотослоя в процессе получения снимка;
• подавление бликов и переотражений;
• антистатическая защита;
• отсутствие повреждений фотослоя в процессе химико-фотографической обработки;
• возможность использования роликовых проявочных машин (шероховатая поверхность защитного слоя облегчает достижение равномерности транспортировки пленки в проявочных машинах).